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真空鍍膜

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真空鍍碳設(shè)備

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技術(shù)指標(biāo)
?電爐尺寸:φ280mm×500mm
?控溫范圍:室溫~800℃
?溫度均勻性:100℃~200℃均勻性±5℃,200℃~800℃均勻性±3℃
?升溫速率:0~10℃/min
?極限真空:E-5Pa(冷態(tài)),E-4Pa(熱態(tài))
 
產(chǎn)品介紹
    該設(shè)備用于真空下高溫裂解有機(jī)物,使石英坩堝內(nèi)壁均勻鍍碳,由真空機(jī)組、氣壓調(diào)節(jié)系統(tǒng)、充氣路系統(tǒng)、電源系統(tǒng)、加熱爐等組成。爐體為電阻加熱爐,可加熱石英管,尺寸根據(jù)用戶需求而,爐膛采用SiC管,可對加熱爐進(jìn)行溫度控制與調(diào)節(jié),控溫表選用MVA溫控表,熱電偶為單鉑銠熱電偶。

上一條:RIE刻蝕機(jī) 下一條:沒有了!
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