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技術(shù)指標(biāo)
?不銹鋼真空室：φ600mm X H750mm，立式，不銹鋼
?觀察窗：φ100mm(鉛玻璃)
?基片架：蒸發(fā)旋轉(zhuǎn)基片架、平板型，樣品尺寸φ100-400mm;旋轉(zhuǎn)調(diào)速電機(jī):0~20rpm，轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào)
?真空系統(tǒng)：復(fù)合分子泵：抽速1600L/S，機(jī)械泵：抽速14L/S
?極限真空：優(yōu)于3.0x10-5Pa；連續(xù)30 min內(nèi)，從大氣抽至8.0x10-4Pa
?蒸發(fā)源：電子槍坩堝：6穴坩堝可實(shí)現(xiàn)6種金屬連續(xù)蒸鍍；控制電源:8KVA
?電阻蒸發(fā)電極： 3對
?電阻蒸發(fā)電源：2000W
?蒸發(fā)舟：鎢舟、鉬舟各10只
?基片加熱：真空專用加熱器，最高加熱溫度500℃
?溫控儀：PID 智能溫控儀,可調(diào)可控，控溫精度士1C。
 
產(chǎn)品介紹
主要用于制備納米器件、有機(jī)光電器件的金屬電極，以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。